为进一步提升我院技术研发人员与知识产权管理人员的专利工作能力，规范专利技术交底书的撰写标准，有效规避专利申请过程中的常见风险，9月17日科技处成功举办“专利技术交底书的撰写和常见问题培训”。

培训会上，专利代理师围绕“专利技术交底书撰写”这一核心主题，展开了系统性、深层次的讲解。课程内容紧密结合我院实际需求，既有理论高度，又有极强的实操性。在“问题规避”模块，讲师结合真实案例，梳理了专利技术交底书撰写中最常见的“雷区”。包括：技术方案公开不充分，导致专利申请因“公开不充分”被驳回；创新点挖掘不到位，将核心技术创新淹没在冗余的技术细节中，无法获得有效的专利保护；与现有技术对比分析不足，难以凸显发明的创造性；附图绘制不规范，无法准确辅助说明技术方案等。针对每个问题，讲师均给出了具体的解决方案与优化建议，引导参训人员学会从专利审查员的视角审视交底书，提前规避潜在风险。

培训会提问环节气氛热烈，参与的师生踊跃提问，本次培训得到了参会人员的一致好评。

                                                                           科技处

                                                                       2025年9月18日

撰写：张婧

初审：江明金

终审：吴宏文